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| 品牌 | 其他品牌 | 溫度穩定性 | 0.05℃ |
|---|---|---|---|
| 溫度范圍 | -5-100℃ | 水浴槽容積 | 10L |
| 溫控功能 | 制冷/加熱型 | 價格區間 | 面議 |
| 循環功能 | 內外循環 | 儀器種類 | 恒溫浴槽 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 環保,化工,生物產業,制藥/生物制藥,綜合 |
低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋技術參數：
型號 | 溫度范圍（℃） | 溫度波動度(℃) | 工作槽容積(mm3) | 工作槽開口(mm2) | 槽深度（mm） | 循環泵流量(L/min) | 排水 |
CHDCW-0506 | -5~100 | 0.02～0.05 | 250×200×150 | 180×160 | 150 | 6 | 有 |
CHDCW-0510 | -5~100 | 0.02～0.05 | 250×200×200 | 180×160 | 200 | 6 | 有 |
CHDCW-1006 | -10~100 | 0.02～0.05 | 250×200×150 | 180×160 | 150 | 6 | 有 |
CHDCW-1008 | -10~100 | 0.02～0.05 | 280×250×140 | 235×180 | 140 | 6 | 有 |
CHDCW-1010 | -10~100 | 0.02～0.05 | 250×200×200 | 180×160 | 200 | 6 | 有 |
CHDCW-1015 | -10~100 | 0.02～0.05 | 280×250×220 | 235×180 | 220 | 6 | 有 |
CHDCW-2006 | -20~100 | 0.02～0.05 | 250×200×150 | 180×160 | 150 | 6 | 有 |
CHDCW-2008 | -20~100 | 0.02～0.05 | 280×250×140 | 235×180 | 140 | 6 | 有 |
CHDCW-2010 | -20~100 | 0.02～0.05 | 250×200×200 | 180×160 | 200 | 6 | 有 |
CHDCW-2015 | -20~100 | 0.02～0.05 | 280×250×220 | 235×180 | 200 | 6 | 有 |
低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋
低溫恒溫循環器的應用領域：
1.材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統、原子沉積系統等。
2.物化領域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。
3. 生化領域：旋轉蒸發儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發酵罐、化學反應器（合成器）等。
4. 對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
5.醫療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、降溫毯等。
6.對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
主要用途：
1、對旋轉蒸發儀、光化學反應儀光源部分進行低溫冷卻。
2、對雙層玻璃反應釜夾層進行低溫冷卻和溫度控制。
3、對分光光度計的發熱部分進行低溫冷卻和溫度控制。
4、對超聲波破碎的試料進行低溫冷卻和溫度控制。
5、對激光加工機的發熱部分進行低溫冷卻和溫度控制。
6、對蝕刻裝置的電機部分進行低溫冷卻和溫度控制。
7、對電子顯微鏡的電源、光源部分進行低溫冷卻和溫度控制。
8、對工業用機械裝置的發熱部分進行低溫冷卻和溫度控制。
9、對電泳儀、粘度計、醫用冷帽、降溫毯進行低溫冷卻和溫度控制。
10、對電鏡、分子泵、離子泵、擴散泵進行低溫冷卻和溫度控制。
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