箱式電阻爐的氣氛控制方式，核心是通過調節爐膛內的氣體成分、壓力及流通狀態，滿足樣品在氧化、還原、惰性或真空環境下的加熱需求，具體可分為通氣式氣氛控制、真空式氣氛控制和混合氣氛控制三大類，不同方式的結構、原理及適用場景差異顯著：

通氣式氣氛控制（常用）

該方式通過向爐膛內通入特定氣體置換空氣，維持目標氣氛環境，分為靜態通氣和動態通氣兩種模式。

靜態通氣模式

原理：關閉爐膛排氣口，先通入少量氣體置換爐膛內空氣（通常置換 3–5 次），再密封爐膛保持氣體氛圍；適用于對氣氛純度要求不高的實驗。

配置：爐體側面設進氣口（配針型閥 / 流量計控制進氣速率），爐門采用硅酸鋁纖維密封圈保證密封性；常用氣體為氮氣、氬氣等惰性氣體。

適用場景：中低溫樣品退火、防止樣品輕度氧化。

動態通氣模式

原理：進氣口持續通入氣體，排氣口同步排出氣體，形成穩定的氣流循環，維持爐膛內氣氛純度和壓力穩定；可通過流量計精準控制氣體流速（通常 0.1–2L/min）。

配置：增加排氣口（配單向閥防止空氣倒灌），部分機型配備氣體凈化裝置（如分子篩除水、脫氧劑除氧）；可通入惰性氣體、還原性氣體（如氫氣，需防爆設計）或氧化性氣體（如氧氣）。

適用場景：高溫燒結、金屬粉末還原、陶瓷材料氣氛燒結。

真空式氣氛控制

該方式通過抽取爐膛內氣體形成真空環境，避免氣體與樣品發生反應，分為低真空和高真空兩種配置。

低真空控制

原理：采用旋片式真空泵抽取爐膛內空氣，真空度可達 10?1–10?2Pa；爐體為普通密封結構，適合對真空度要求較低的實驗。

配置：爐膛側部設真空接口，搭配真空閥、真空表；加熱元件需選用耐真空材質（如鎳鉻合金、硅鉬棒，避免鐵鉻鋁在真空下揮發）。

適用場景：樣品脫氣、真空退火、防止樣品氧化。

高真空控制

原理：采用旋片泵 + 擴散泵 / 分子泵的組合真空泵組，真空度可達 10?3–10??Pa；爐體需采用不銹鋼材質 + 法蘭密封結構，減少氣體泄漏。

配置：增加真空規管（如熱偶規、電離規）實時監測真空度，配備真空檢漏儀；爐膛內壁需做拋光處理，降低氣體吸附。

適用場景：特種金屬熔煉、單晶生長、高精度材料熱處理。

混合氣氛控制（定制化需求）

該方式結合通氣和真空兩種模式，可精準調配多種氣體的比例，滿足復雜實驗需求。

原理：先將爐膛抽至低真空狀態，再按比例通入兩種或多種氣體，通過氣體配比器控制各氣體的流量，形成穩定的混合氣氛。

配置：配備多路氣體接口 + 高精度質量流量控制器（MFC），支持氣體比例實時調節；部分機型配備氣氛分析模塊（如氧探頭、露點儀），監測氣氛成分變化。

適用場景：功能陶瓷摻雜燒結、金屬材料滲碳 / 滲氮處理、半導體材料制備。

氣氛控制的關鍵注意事項

通入氫氣、一氧化碳等易燃易爆氣體時，爐體必須配備防爆閥、氣體泄漏報警器，且實驗環境需通風良好；

真空與通氣模式切換時，需先將爐膛恢復至常壓，再通入氣體，避免壓力突變損壞爐體；

高溫下的氣氛控制需關注加熱元件兼容性，例如硅鉬棒在含氫氣氛中易發生氫脆，需選用專用抗氫元件。